某光电器件IC芯片生引发产厂在晶圆代加工全过程中，操作硅烷来硅外加的生长，空气洗衣机清洗塔引发高盐浓度含硅焦化污水。焦化污水还具有pH震荡大（2-11）、硅分子量高的优势，民俗加工办法易现身硅垢堵死现象。 废水处理工艺因素及因素 电镀废水包括含量为： 消融性硅酸盐 ：SiO₂氨水浓度达1000-1500mg/L 硝酸钠/氢空气氧化钠 ：清洗塔酸性清洗液杂质 颗料硅 ：nm级SiO₂溶液 痕量砷 ：配料沉渣带进 操作生产工艺的流程 什么是创新运用"多级采和+膜过滤系统+化掉结晶体"工艺技术： 四级采和 ：用CaO调高pH至4-5，生成二维码硅酸钙凝固，硅删去率60%。 2级采和 ：加Na₂CO₃将pH不断提升至9，进一大步沉淀出的累计硅，电容串联用镁剂除砷。 超滤膜软件 ：0.02μm瓷砖膜进行过滤微米级硅小粒，通量安全稳定在80LMH。 MVR挥发器 ：浓缩造成高盐废污水，凝结出Na₂SO₄副物料，水造纸废水处理率超90%。 以后的效果 总硅从1500mg/L降为5mg/L一下 砷含铁从0.8mg/L调至0.01mg/L 系统无积垢正常运作可超过2年 第一年收购 盐酸钠晶状体约800吨